Mặt Nạ Phục Hồi Da Rejuran c-PDRN - Hộp 5 Miếng Dưỡng Ẩm, Làm Dịu Da Hàn Quốc, Phù Hợp Cho Da Nhạy Cảm, Tái Tạo Làn Da Mịn Màng 752538

Mặt Nạ Phục Hồi Da Rejuran Skin Protection Mask with c-PDRN – Hộp 5 Miếng

Thương hiệu: Rejuran

Xuất xứ: Hàn Quốc

Quy cách: Hộp 5 miếng x 27ml

Loại da phù hợp: Mọi loại da, đặc biệt là da khô, nhạy cảm, da sau liệu trình thẩm mỹ

Ưu điểm nổi bật:

Rejuran Skin Protection Mask là dòng mặt nạ dưỡng da cao cấp đến từ Hàn Quốc, nổi bật với thành phần Polynucleotide (c-PDRN) chiết xuất từ cá hồi – hoạt chất thường được ứng dụng trong các liệu trình chăm sóc da chuyên sâu.

Kết hợp cùng nhiều thành phần dưỡng ẩm và làm dịu như Hyaluronic Acid, chiết xuất hoa cúc La Mã, lô hội và rau má, sản phẩm mang lại hiệu quả phục hồi – cấp ẩm – bảo vệ da toàn diện.

hiệu quả chính:

• Hỗ trợ phục hồi và tái tạo làn da hư tổn, cải thiện độ đàn hồi
• Dưỡng ẩm sâu, giúp da luôn mềm mại, mịn màng
• Làm dịu tình trạng da nhạy cảm, giảm kích ứng, mẩn đỏ
• Hỗ trợ làm sáng da và cải thiện bề mặt da nhờ Niacinamide
• Bảo vệ da khỏi các yếu tố môi trường, giảm tác động của gốc tự do

Thành phần nổi bật:

• Polynucleotide (PN – c-PDRN): Chiết xuất từ DNA cá hồi, giúp thúc đẩy quá trình tái tạo tế bào da và cải thiện cấu trúc da.
• Hyaluronic Acid: Dưỡng ẩm mạnh mẽ, giúp da căng mọng, hạn chế tình trạng khô ráp.
• Chiết xuất lô hội & hoa cúc La Mã: Làm dịu da, giảm kích ứng và mẩn đỏ.
• Niacinamide: Hỗ trợ làm đều màu da, cải thiện độ sáng tự nhiên.
• Chiết xuất rau má: Hỗ trợ phục hồi tổn thương, kích thích sản sinh collagen.

Hướng dẫn sử dụng:

1. Làm sạch da mặt, sử dụng toner để cân bằng pH.
2. Lấy mặt nạ ra khỏi bao bì và đắp lên da, căn chỉnh ôm khít mặt.
3. Thư giãn trong 15–20 phút.
4. Gỡ mặt nạ, vỗ nhẹ tinh chất còn lại để dưỡng chất thẩm thấu.
5. Khuyến khích dùng 2–3 lần/tuần để đạt hiệu quả tốt nhat.

Lưu ý sử dụng & bảo quản:

• Tránh tiếp xúc trực tiếp với mắt.
• Ngưng sử dụng nếu có dấu hiệu kích ứng và tham khảo ý kiến chuyên gia.
• Bảo quản nơi khô ráo, thoáng mát, tránh ánh nắng trực tiếp.